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          UV光解技術
          光催化氧化

             半導體光催化劑大多是n型半導體材料都具有區別于金屬或絕緣物質的特別的能帶結構,即在一個價帶和導帶之間存在一個禁帶。由于半導體的光吸收閾值與帶隙具有式K=1240/Eg(eV)的關系,因此常用的寬帶隙半導體的吸收波長閾值大都在紫外區域。當光子能量高于半導體吸收閾值的光照射半導體時,半導體的價帶電子發生帶間躍遷,即從價帶躍遷到導帶,從而產生光生電子(e-)和空穴(h+)。此時吸附在納米顆粒表面的溶解氧俘獲電子形成超氧負離子,而空穴將吸附在催化劑表面的氫氧根離子和水氧化成氫氧自由基。而超氧負離子和氫氧自由基具有很強的氧化性,能將絕大多數的有機物氧化至最終產物CO2和H2O,甚至對一些無機物也能徹底分解。
          原理:
             一、利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體,改變惡臭氣體如:氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC類,苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結構,使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈,在高能紫外線光束照射下,降解轉變成低分子化合物,如CO2、H2O等。
             二、利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧,即活性氧,因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合,進而產生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對有機物具有極強的氧化作用,對惡臭氣體及其它刺激性異味有立竿見影的清除效果。
             三、惡臭氣體利用排風設備輸入到本凈化設備后,凈化設備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協同分解氧化反應,使惡臭氣體物質其降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通過排風管道排出室外。
             四、利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵,破壞細菌的核酸(DNA),再通過臭氧進行氧化反應,達到脫臭及殺滅細菌的目的.
          2、技術特點
             一、高效除惡臭:能高效去除揮發性有機物(VOC)、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物,以及各種惡臭味,脫臭效率可達99.9%以上。
             二、無需添加任何物質:只需要設置相應的排風管道和排風動力,使惡臭氣體通過本設備進行脫臭分解凈化,無需添加任何物質參與化學反應。
             三、適應性強:可適應高濃度,大氣量,不同惡臭氣體物質的脫臭凈化處理,可每天24小時連續工作,運行穩定可靠。
             四、運行成本低:本設備無任何機械動作,無噪音,無需專人管理和日常維護,只需作定期檢查,本設備能耗低,只需電費,沒有其他耗材。
             五、無需預處理:惡臭氣體無需進行特殊的預處理,如加溫、加濕等,設備工作環境溫度在攝氏-30℃-95℃之間,濕度在40%-98%之間均可正常工作。
             六、設備占地面積小,自重輕:適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件,設備占地面積<1平方米/處理10000m3/h風量。

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